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中国第四代半导体再获突破成功研制高品质氧化镓外延片8英寸硅片
发布者:鸿腾智能科技(江苏)有限公司 发布时间:2023-03-18 10:44:56 点击次数:635 关闭
    3月14日从西安邮电大学官网获悉,西安邮电大学半导体新型器件与材料重点实验室陈海峰教授团队成功制备出高品质氧化镓外延片8英寸硅片上的晶圆。这一成绩表明学校在超宽带隙半导体研究方面取得了重大进展。
    团队负责人陈海峰教授介绍,氧化镓是一种超宽带隙半导体材料,具有优异的耐高压和日盲紫外光响应特性,在功率器件和光电子领域具有巨大潜力。硅上的氧化镓异质外延有利于硅电路与氧化镓电路的直接集成,具有成本低、散热好等优点。

    氧化镓是一种新型超宽带隙半导体材料,是目前已在国际上得到广泛关注和认可并开始产业化的第四代半导体材料。与上一代半导体材料相比,氧化镓材料具有更高的击    穿电场强度和更低的电阻率,从而实现更低的能量损耗和更高的功率转换效率。此外,氧化镓具有良好的化学稳定性和热稳定性,成本低廉,制备方法简单,便于大规模生产,具有明显的产业化优势。
    氧化镓是一种无机化合物,化学式为Ga2O3。三氧化镓,又称三氧化二镓,是一种宽带隙半导体,Eg=4.9eV。其导电和发光特性长期以来一直受到人们的关注。Ga2O3是一种透明氧化物半导体材料,在光电器件中具有广泛的应用前景,用作Ga基半导体材料的绝缘层和紫外滤光片。它也可以用作化学O2检测器。

    近年来,我国在氧化镓制备方面不断取得突破。从去年的2英寸到6英寸,再到最新的8英寸,氧化镓制备技术日趋成熟。

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